• 2 октября 2014, четверг
  • Москва, Ленинский проспект, д. 4, Корпус Б, Библиотека НИТУ "МИСиС"

Лекция Линдсей Грир (Кембриджский университет, Великобритания)

Регистрация на событие закрыта

Извините, регистрация закрыта. Возможно, на событие уже зарегистрировалось слишком много человек, либо истек срок регистрации. Подробности Вы можете узнать у организаторов события.

Другие события организатора

1662 дня назад
2 октября 2014 c 10:50 до 12:25
Москва
Ленинский проспект, д. 4, Корпус Б, Библиотека НИТУ "МИСиС"

Кинетика быстрого и медленного роста кристаллов при стекловании расплавов, (лекция на английском языке с синхронным переводом)

"Кинетика быстрого и медленного роста кристаллов при стекловании расплавов"

  

Скорость роста кристаллов в переохлажденной жидкости является важным фактором, влияющем на способность  к стеклованию, а также представляет интерес и в отношении других явлений и процессов. Мы провели сравнение скорости роста кристаллов(с использованием опубликованных данных) широкого спектра систем (включая чистые металлы — с использованием результатов моделирования методами молекулярной динамики) при согласованной  кристаллизации с плоским фронтом. В каждой системе скорость роста максимальна при некоторой температуре, лежащей в интервале между температурой стеклования и температурой плавления. Жидкости можно классифицировать по степени склонности к неравновесной кристаллизации. Неустойчивые системы демонстрируют «быстрый» рост, характеризующийся очень широким пиком на зависимости скорости роста от температуры. Для устойчивых — характерен «медленный» рост с узким пиком. Для выбранных в исследовании систем максимальная скорость роста кристаллов составляла от 156 м/с для железа (высокая) до 2 нм/с для кремния (низкая). Такое различное поведение при охлаждении объясняется, в основном, динамикой переохлажденной жидкости, а отнюдь не термодинамическим напором при кристаллизации. Низкая устойчивость, в  принципе, коррелирует с более низкими температурами стеклования, Trg, а также с большей нестабильностью жидкого состояния, m. Поскольку между собой эти параметры не связаны, для расчета устойчивости необходимы значения обоих. Предложено использовать единственный параметр, демонстрирующий хорошую корреляцию, как со скоростью роста, так и со способностью к стеклованию. Проведенный анализ позволяет в той или иной степени дать ответы на следующие вопросы: (I) Каков диапазон металлических систем, склонных к стеклованию? (II) Возможно ли стеклование расплавов чистых металлов? (III) Как обеспечить в халькогенидах для устройств памяти с изменением фазового состояния высокую скорость кристаллизации, необходимую для быстрого переключения, с временной стабильностью такой памяти?

Регистрация

Рекомендуемые события

Организуете события? Обратите внимание на TimePad!

Профессиональная билетная система, статистика продаж 24/7, выгрузка списков участников, встроенные инструменты продвижения, личный кабинет для самостоятельного управления и еще много чего интересного.

Узнать больше